Questão #10152342018
Engenharia Mecânica
Um substrato de silício do tipo p, com 5.1015 átomos de boro por cm3, foi a matéria prima para fabricar microcircuitos eletrônicos. Para produzir as uniões n-p, se difundiram átomos de fósforo no substrato. Na temperatura de pré-deposição de 1.000°C, a solubilidade do P no Si é 1.1021 átomos de P/cm3 . O coeficiente de difusão do P no Si na temperatura de 1.000°C é 1,10-14cm2/s.
Calcule a profundidade das uniões depois da pré-deposição em tempo de 3.600s.
A profundidade das uniões é igual a
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